| нанесения | | |
| покрытия | | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 1. Химическое | суперсплавы | алюминиды для внутренних |
| осаждение паров | | каналов |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | керамика (19) и | силициды, карбиды, слои |
| | стекла с малым | диэлектриков (15), алмаз, |
| | коэффициентом | алмазоподобный углерод |
| | расширения (14) <*> | (17) |
| |---------------------|----------------------------|
| | углерод - углерод, | силициды, карбиды, |
| | керамика (19) и | тугоплавкие металлы, смеси |
| | композиционные | перечисленных выше |
| | материалы с | материалов (4), слои |
| | металлической | диэлектриков (15), |
| | матрицей | алюминиды, сплавы |
| | | алюминидов (2), нитрид |
| | | бора |
| |---------------------|----------------------------|
| | цементированный | карбиды, вольфрам, смеси |
| | карбид | перечисленных выше |
| | вольфрама (16), | материалов (4), слои |
| | карбид кремния (18) | диэлектриков (15) |
| |---------------------|----------------------------|
| | молибден и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| |---------------------|----------------------------|
| | бериллий и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| |---------------------|----------------------------|
| | материалы окон | слои диэлектриков (15) |
| | датчиков (9) | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 2. Физическое | | |
| осаждение паров | | |
| термовыпариванием | | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 2.1. Физическое | суперсплавы | сплавы силицидов, сплавы |
| осаждение паров | | алюминидов (2), MCrAlX |
| электронным лучом | | (5), модифицированные виды |
| | | циркония (12), силициды, |
| | | алюминиды, смеси |
| | | перечисленных выше |
| | | материалов (4) |
| |---------------------|----------------------------|
| | керамика и стекла с | слои диэлектриков (15) |
| | малым коэффициентом | |
| | расширения (14) | |
| |---------------------|----------------------------|
| | коррозиестойкие | MCrAlX (5), |
| | стали (7) | модифицированные виды |
| | | циркония (12), смеси |
| | | перечисленных выше |
| | | материалов (4) |
| |---------------------|----------------------------|
| | углерод - углерод, | силициды, карбиды, |
| | керамика и | тугоплавкие металлы, смеси |
| | композиционные | перечисленных выше |
| | материалы с | материалов (4), слои |
| | металлической | диэлектриков (15), нитрид |
| | матрицей | бора |
| |---------------------|----------------------------|
| | цементированный | карбиды, вольфрам, смеси |
| | карбид | перечисленных выше |
| | вольфрама (16), | материалов (4), слои |
| | карбид кремния | диэлектриков (15) |
| |---------------------|----------------------------|
| | молибден и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| |---------------------|----------------------------|
| | бериллий и его | слои диэлектриков (15), |
| | сплавы | бориды, бериллий |
| |---------------------|----------------------------|
| | материалы окон | слои диэлектриков (15) |
| | датчиков (9) | |
| |---------------------|----------------------------|
| | титановые сплавы | бориды, нитриды |
| | (13) | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 2.2. Физическое | керамика и стекла с | слои диэлектриков (15), |
| осаждение паров с | малым коэффициентом | алмазоподобный углерод |
| ионизацией | расширения (14) | |
| посредством | | |
| резистивного | углерод - углерод, | слои диэлектриков (15) |
| нагрева (ионное | керамика и | |
| гальваническое | композиционные | |
| покрытие) | материалы с | |
| | металлической | |
| | матрицей | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | цементированный | слои диэлектриков (15) |
| | карбид | |
| | вольфрама (16), | |
| | карбид кремния | |
| | --------------------|----------------------------|
| | молибден и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| | --------------------|----------------------------|
| | бериллий и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| | --------------------|----------------------------|
| | материалы окон | слои диэлектриков (15), |
| | датчиков (9) | алмазоподобный углерод |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 2.3. Физическое | керамика и стекла с | силициды, слои |
| осаждение паров: | малым коэффициентом | диэлектриков (15), |
| выпаривание | расширения (14) | алмазоподобный углерод |
| лазером | | |
| | углерод - углерод, | слои диэлектриков (15) |
| | керамика и | |
| | композиционные | |
| | материалы с | |
| | металлической | |
| | матрицей | |
| |---------------------|----------------------------|
| | цементированный | слои диэлектриков (15) |
| | карбид | |
| | вольфрама (16), | |
| | карбид кремния | |
| |---------------------|----------------------------|
| | молибден и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| |---------------------|----------------------------|
| | бериллий и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| |---------------------|----------------------------|
| | материалы окон | слои диэлектриков (15), |
| | датчиков (9) | алмазоподобный углерод |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 2.4. Физическое | суперсплавы | сплавы силицидов, сплавы |
| осаждение паров: | | алюминидов (2), MCrAlX (5) |
| катодный дуговой |---------------------|----------------------------|
| разряд | полимеры (11) и | бориды, карбиды, нитриды, |
| | композиционные | алмазоподобный углерод |
| | материалы с | |
| | органической | |
| | матрицей | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 3. Цементация | углерод - углерод, | силициды, карбиды, смеси |
| (10) | керамика и | перечисленных выше |
| | композиционные | материалов (4) |
| | материалы с | |
| | металлической | |
| | матрицей | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | сплавы титана (13) | силициды, алюминиды, |
| | | сплавы алюминидов (2) |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | тугоплавкие металлы | силициды, оксиды |
| | и сплавы (8) | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 4. Плазменное | суперсплавы | MCrAlX (5), |
| напыление | | модифицированные виды |
| | | циркония (12), смеси |
| | | перечисленных выше |
| | | материалов (4), эрозионно |
| | | стойкий никель - графит, |
| | | эрозионно стойкие |
| | | материалы, содержащие - |
| | | никель - хром - алюминий, |
| | | эрозионно стойкий |
| | | алюминий - кремний - |
| | | полиэфир, сплавы |
| | | алюминидов (2) |
| |---------------------|----------------------------|
| | алюминиевые сплавы | MCrAlX (5), |
| | (6) | модифицированные виды |
| | | циркония (12), силициды, |
| | | смеси перечисленных выше |
| | | материалов (4) |
| |---------------------|----------------------------|
| | тугоплавкие металлы | алюминиды, силициды, |
| | и сплавы (8) | карбиды |
| |---------------------|----------------------------|
| | коррозиестойкие | модифицированные виды |
| | стали (7) | циркония (12), смеси |
| | | перечисленных выше |
| | | материалов (4), MCrAlX (5) |
| |---------------------|----------------------------|
| | титановые сплавы | карбиды, алюминиды, |
| | (13) | силициды, сплавы |
| | | алюминидов (2), эрозионно |
| | | стойкий никель - графит, |
| | | эрозионно стойкий |
| | | никель - хром - алюминий - |
| | | бентонит, эрозионно |
| | | стойкий алюминий - |
| | | кремний - полиэфир |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 5. Осаждение | тугоплавкие металлы | легкоплавкие силициды, |
| суспензии (шлама) | и сплавы (8) | легкоплавкие алюминиды |
| | | (кроме материалов для |
| | | теплостойких элементов) |
| |---------------------|----------------------------|
| | углерод - углерод, | силициды, карбиды, смеси |
| | керамика и | перечисленных выше |
| | композиционные | материалов (4) |
| | материалы с | |
| | металлической | |
| | матрицей | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 6. Металлизация | суперсплавы | сплавы силицидов, сплавы |
| распылением | | алюминидов (2), |
| | | благородные металлы, |
| | | модифицированные |
| | | алюминидами (3), MCrAlX |
| | | (5), модифицированные виды |
| | | циркония (12), платина, |
| | | смеси перечисленных выше |
| | | материалов (4) |
| |---------------------|----------------------------|
| | керамика и стекла с | силициды, платина, смеси |
| | малым коэффициентом | перечисленных выше |
| | расширения (14) | материалов (4), слои |
| | | диэлектриков (15), |
| | | алмазоподобный углерод |
| |---------------------|----------------------------|
| | титановые | бориды, нитриды, оксиды, |
| | сплавы (13) | силициды, алюминиды, |
| | | сплавы алюминидов (2), |
| | | карбиды |
| |---------------------|----------------------------|
| | углерод - углерод, | силициды, карбиды, |
| | керамика и | тугоплавкие металлы, смеси |
| | композиционные | перечисленных выше |
| | материалы с | материалов (4), слои |
| | металлической | диэлектриков (15), нитрид |
| | матрицей | бора |
| |---------------------|----------------------------|
| | цементированный | карбиды, вольфрам, смеси |
| | карбид вольфрама | перечисленных выше |
| | (16), карбид | материалов (4), слои |
| | кремния | диэлектриков (15), нитрид |
| | | бора |
| |---------------------|----------------------------|
| | молибден и его | слои диэлектриков (15) |
| | сплавы | |
| |---------------------|----------------------------|
| | бериллий и его | бориды, слои |
| | сплавы | диэлектриков (15), |
| | | бериллий |
| |---------------------|----------------------------|
| | материалы окон | слои диэлектриков (15), |
| | датчиков (9) | алмазоподобный углерод |
| |---------------------|----------------------------|
| | тугоплавкие металлы | алюминиды, силициды, |
| | и сплавы (8) | оксиды, карбиды |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| 7. Ионная | высокотемпературные | добавки хрома, тантала или |
| имплантация | стойкие стали | ниобия (колумбия в США) |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | титановые сплавы | бориды, нитриды |
| | (13) | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | бериллий и его | бориды |
| | сплавы | |
|-------------------|---------------------|----------------------------|
| | цементированный | карбиды, нитриды |
| | карбид вольфрама | |
| | (16) | |
------------------------------------------------------------------------
--------------------------------
<*> См. пункт примечаний к данной таблице, соответствующий
указанному в скобках.
Примечания к таблице. 1. Процесс нанесения покрытия включает как
нанесение нового покрытия, так и ремонт и обновление существующих
покрытий.
2. Покрытие сплавами алюминида включает единичное или
многократное нанесение покрытий, в ходе которого на элемент или
элементы осаждается покрытие до или в течение процесса
алюминидирования, даже если на эти элементы были осаждены покрытия с
помощью других процессов. Это, однако, исключает многократное
использование одношагового процесса пакетной цементации для получения
сплавов алюминидов.
3. Покрытие благородными металлами, модифицированными
алюминидами, включает многошаговое нанесение покрытий, в котором
благородный металл или благородные металлы нанесены ранее каким-либо
другим процессом до применения метода нанесения алюминида.
4. Смеси включают инфильтрующий материал, композиции,
выравнивающие температуру процесса, присадки и многоуровневые
материалы и получаются в ходе одного или нескольких процессов
нанесения покрытий, изложенных в таблице.
5. MCrAlX соответствует сложному составу покрытия, где M
эквивалентно кобальту, железу, никелю или их комбинации, а X
эквивалентно гафнию, иттрию, кремнию, танталу в любом количестве или
другим специально внесенным добавкам свыше 0,01% (по весу) в различных
пропорциях и комбинациях, кроме:
а) CoCrAlY - покрытий, содержащих менее 22% (по весу) хрома,
менее 7% (по весу) алюминия и менее 2% (по весу) иттрия; или
б) CoCrAlY - покрытий, содержащих 22 - 24% (по весу) хрома, 10 -
12% (по весу) алюминия и 0,5 - 0,7% (по весу) иттрия; или
в) NiCrAlY - покрытий, содержащих 21 - 23% (по весу) хрома, 10 -
12% (по весу) алюминия и 0,9 - 1,1% (по весу) иттрия.
6. Термин "алюминиевые сплавы" соответствует сплавам с предельным
значением прочности на разрыв 190 МПа или более, измеренным при
температуре 293 K (20 град. C).
7. Термин "коррозиестойкая сталь" относится к сталям,
удовлетворяющим требованиям стандарта Американского института железа и
стали, в соответствии с которым производится оценка по 300 различным
показателям, или требованиям соответствующих национальных стандартов
для сталей.
8. Тугоплавкие металлы и сплавы включают следующие металлы и их
сплавы: ниобий (колумбий - в США), молибден, вольфрам и тантал.
9. Материалами окон датчиков являются: алюмин (оксид алюминия),
кремний, германий, сульфид цинка, селенид цинка, арсенид галлия,
алмаз, фосфид галлия, сапфир, а для окон датчиков диаметром более 40
мм - фтористый цирконий и фтористый гафний.
10. Технология для одношаговой пакетной цементации твердых
профилей крыльев не подвергается ограничению по Категории 2.
11. Полимеры включают: полиамид, полиэфир, полисульфид,
поликарбонаты и полиуретаны.
12. Термин "модифицированные виды циркония" означает цирконий с
внесенными в него добавками оксидов других металлов (таких, как оксиды
кальция, магния, иттрия, гафния, редкоземельных металлов) в
соответствии с условиями стабильности определенных
кристаллографических фаз и фазы смещения. Термостойкие покрытия из
циркония, модифицированные кальцием или оксидом магния методом
смешения или расплава, не контролируются.
13. Титановые сплавы определяются исключительно как
аэрокосмические сплавы с предельным значением прочности на разрыв 900
МПа или более, измеренным при 293 K (20 град. C).
14. Стекла с малым коэффициентом расширения определяются как
-1
стекла, имеющие коэффициент температурного расширения 1E(-7) К или
менее, измеренный при 293 K (20 град. C).
15. Диэлектрические слоевые покрытия относятся к многослойным
изолирующим материалам, в которых интерференционные свойства
конструкции сочетаются с различными индексами переотражения, что
используется для отражения, передачи или поглощения различных волновых
диапазонов. Диэлектрические слоевые покрытия состоят из четырех и
более слоев диэлектрика или слоевой композиции диэлектрик - металл.
16. Цементированный карбид вольфрама не включает материалы,
применяемые для резания и формования металла, состоящие из карбида
вольфрама / (кобальт - никель), карбида титана / (кобальт - никель),
карбида хрома / (никель - хром) и карбида хрома / никеля.
17. Не контролируется технология, специально разработанная для
нанесения алмазоподобного углерода на любое из нижеуказанного:
магнитные дисководы и головки, поликарбонатные окуляры, оборудование
для производства расходных материалов, оборудование пекарен, вентили
кранов, диафрагмы для динамиков акустических колонок, части
автомобильных двигателей, режущие инструменты, пресс - формы для
штамповки - прессования, высококачественные линзы, сконструированные
для камер или телескопов, офисного автоматического оборудования,
микрофоны или медицинские приборы.
18. Карбид кремния не включает материалы для режущих и гибочных
инструментов.
19. Керамические подложки, в том смысле, в котором этот термин
применяется в настоящем пункте, не включают в себя керамические
материалы, содержащие 5% от веса или более клей или цемент как
отдельные составляющие, а также их сочетания.
Технические примечания к таблице. Процессы, представленные в
графе "Наименование процесса нанесения покрытия", определяются
следующим образом:
1. Химическое осаждение паров - это процесс нанесения чисто
внешнего покрытия или покрытия с модификацией покрываемой поверхности,
когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика
наносятся на нагретое изделие. Газообразные реактивы разлагаются или
соединяются на поверхности изделия, в результате чего на ней
образуются желаемые элементы, сплавы или компаунды. Энергия для такого
разложения или химической реакции может быть обеспечена за счет
нагрева изделия плазменным разрядом или лучом лазера.
Особые примечания. а) Химическое осаждение паров включает
следующие процессы: беспакетное нанесение покрытия прямым газовым
потоком, пульсирующее химическое осаждение паров, управляемое
термическое осаждение с образованием центров кристаллизации, с
применением мощного потока плазмы или химическое осаждение паров с
участием плазмы.
б) Пакет означает погружение изделия в пудру из нескольких
составляющих.
в) Газообразные продукты (пары, реагенты), используемые в
беспакетном процессе, применяются с несколькими базовыми реакциями и
параметрами, такими как пакетная цементация, кроме случая, когда на
изделие наносится покрытие без контакта со смесью пудры.
2. Физическое осаждение паров с ионизацией посредством
резистивного нагрева - это процесс чисто внешнего покрытия в вакууме с
давлением меньше 0,1 Па, когда источник тепловой энергии используется
для превращения в пар наносимого материала. В результате процесса
конденсат или покрытие осаждается на соответствующие части поверхности
изделия. Появляющиеся в вакуумной камере газы в процессе осаждения
поглощаются в большинстве модификаций процесса элементами сложного
состава покрытия. Использование ионного или электронного излучения или
плазмы для активизации нанесения покрытия или участия в этом процессе
также свойственно большинству модификаций процесса физического
осаждения паров с ионизацией посредством резистивного нагрева.
Применение мониторов для обеспечения измерения в ходе процесса
оптических характеристик или толщины покрытия может быть реализовано в
будущем. Специфика физического осаждения паров с ионизацией
посредством резистивного нагрева заключается в следующем:
а) при электронно - лучевом физическом осаждении для нагревания и
испарения материала, наносимого на изделие, используется электронный
луч;
б) при физическом осаждении с терморезистором в качестве
источника тепла в сочетании с соударением ионного пучка,
обеспечивающих контролируемый и равномерный (однородный) поток паров
материала покрытия, используется электрическое сопротивление;
в) при парообразовании лазером для испарения материала, который
формирует покрытие, используется импульсный или непрерывный лазерный
луч;
г) в процессе покрытия с применением катодной дуги в качестве
материала, который формирует покрытие и имеет установившийся разряд
дуги на поверхности катода после моментального контакта с заземленным
пусковым устройством (триггером), используется расходуемый катод.
Контролируемая дуговая эрозия поверхности катода приводит к
образованию высокоионизированной плазмы. Анод может быть коническим и
располагаться по периферии катода через изолятор или сама камера может
играть роль анода. Для нелинейного управления нанесением изоляции
используются изделия с регулированием их положения.
Особое примечание. Описанный в подпункте "г" процесс не относится
к нанесению покрытий произвольной катодной дугой с фиксированным
положением изделия.
д) Ионная имплантация - специальная модификация генерального
процесса, в котором плазменный или ионный источник используется для
ионизации материала наносимых покрытий, а отрицательное смещение
(заряд) изделия способствует осаждению составляющих покрытия из
плазмы. Введение активных реагентов, испарение твердых материалов в
камере, а также использование мониторов, обеспечивающих измерение (в
процессе нанесения покрытий) оптических характеристик и толщины
покрытий, свойственны обычным модификациям процесса физического
осаждения паров термовыпариванием.
3. Пакетная цементация - модификация метода нанесения покрытия на
поверхность или процесс нанесения чисто внешнего покрытия, когда
изделие погружено в пудру - смесь нескольких компонентов (в пакет),
которая состоит из:
а) металлических порошков, которые входят в состав покрытия
(обычно алюминий, хром, кремний или их комбинации);
б) активатора (в большинстве случаев галоидная соль); и
в) инертной пудры, чаще всего алюмин (оксид алюминия).
Изделие и смесевая пудра содержатся внутри реторты (камеры),
которая нагревается от 1030 K (757 град. C) до 1375 K (1102 град. C)
на время, достаточное для нанесения покрытия.
4. Плазменное напыление - процесс нанесения чисто внешнего
покрытия, когда плазменная пушка (горелка напыления), в которой
образуется и управляется плазма, принимая пудру или пруток из
материала покрытия, расплавляет их и направляет на изделие, где
формируется интегрально связанное покрытие. Плазменное напыление может
быть основано на напылении плазмой низкого давления или
высокоскоростной плазмой.
Особые примечания. а) Низкое давление означает давление ниже
атмосферного.
б) Высокоскоростная плазма определяется скоростью газа на срезе
сопла (горелки напыления), превышающей 750 м/с, рассчитанной при
температуре 293 K (20 град. C) и давлении 0,1 МПа.
5. Осаждение суспензии (шлама) - это процесс нанесения покрытия с
модификацией покрываемой поверхности или чисто внешнего покрытия,
когда металлическая или керамическая пудра с органическим связующим,
суспензированные в жидкости, связываются с изделием посредством
напыления, погружения или окраски с последующей воздушной или печной
сушкой и тепловой обработкой для достижения необходимых свойств
покрытия.
6. Металлизация распылением - это процесс нанесения чисто
внешнего покрытия, базирующийся на феномене передачи количества
движения, когда положительные ионы ускоряются в электрическом поле по
направлению к поверхности мишени (материала покрытия). Кинетическая
энергия ударов ионов обеспечивает образование на поверхности мишени
требуемого покрытия.
Особые примечания. а) В таблице приведены сведения только о
триодной, магнетронной или реактивной металлизации распылением,
которые применяются для увеличения адгезии материала покрытия и
скорости его нанесения, а также о радиочастотном усилении напыления,
используемом при нанесении парообразующих неметаллических материалов
покрытий.
б) Низкоэнергетические ионные лучи (меньше 5 КэВ) могут быть
использованы для ускорения (активизации) процесса нанесения покрытия.
7. Ионная имплантация - это процесс нанесения покрытия с
модификацией поверхности изделия, когда материал (сплав) ионизируется,
ускоряется системой, обладающей градиентом потенциала, и
имплантируется на участок поверхности изделия. К процессам с ионной
имплантацией относятся и процессы, в которых ионная имплантация
самопроизвольно выполняется в ходе выпаривания электронным лучом или
металлизации распылением.
Техническая терминология, используемая
в таблице технических приемов осаждения покрытий
Подразумевается, что следующая техническая информация,
относящаяся к таблице технических приемов осаждения покрытий,
используется при необходимости.
1. Терминология, используемая в технологиях для предварительной
обработки подложек, указанных в таблице:
1.1. Параметры химического снятия покрытий и очистки в ванне:
1.1.1. Состав раствора для ванны:
1.1.1.1. Для удаления старых или поврежденных покрытий, продуктов
коррозии или инородных отложений;
1.1.1.2. Для приготовления чистых подложек
1.1.2. Время обработки в ванне;
1.1.3. Температура в ванне;
1.1.4. Число и последовательность промывочных циклов
1.2. Визуальные и макроскопические критерии для определения
величины чистящей дозы;
1.3. Параметры циклов горячей обработки:
1.3.1. Атмосферные параметры:
1.3.1.1. Состав атмосферы;
1.3.1.2. Атмосферное давление
1.3.2. Температура для горячей обработки;
1.3.3. Продолжительность горячей обработки
1.4. Параметры подложек для поверхностной обработки:
1.4.1. Параметры пескоструйной очистки:
1.4.1.1. Состав песка;
1.4.1.2. Размеры и форма частиц песка;
1.4.1.3. Скорость подачи песка
1.4.2. Время и последовательность циклов очистки после
пескоструйной очистки;
1.4.3. Параметры окончательно обработанной поверхности
1.4.4. Применение связующих веществ, способствующих адгезии
1.5. Технические параметры защитного покрытия:
1.5.1. Материал защитного покрытия;
1.5.2. Размещение защитного покрытия
2. Терминология, используемая при определении технологических
параметров, обеспечивающих качество покрытия для способов, указанных в
таблице:
2.1. Атмосферные параметры:
2.1.1. Состав атмосферы;
2.1.2. Атмосферное давление
2.2. Временные параметры;
2.3. Температурные параметры;
2.4. Параметры слоя;
2.5. Коэффициент параметров преломления
2.6. Контроль структуры покрытия
3. Терминология, используемая в технологиях для обработки
покрываемых подложек, указанных в таблице, осадкой мелкозернистым
песчаником:
3.1. Параметры упрочняющей дробеструйной обработки:
3.1.1. Состав дроби;
3.1.2. Размер дроби;
3.1.3. Скорость подачи дроби
3.2. Параметры обработки осадкой мелкозернистым песчаником;
3.3. Параметры цикла горячей обработки:
3.3.1. Атмосферные параметры:
3.3.1.1. Состав атмосферы;
3.3.1.2. Атмосферное давление
3.3.2. Температурно - временные циклы
3.4. Визуальные и макроскопические критерии горячей обработки для
последующего нанесения покрытия на подложку
4. Терминология, используемая в технологиях для определения
технических приемов, гарантирующих качество покрытия подложек,
указанных в таблице:
4.1. Критерии статического выборочного контроля;
4.2. Микроскопические критерии для:
4.2.1. Усиления;
4.2.2. Равномерности толщины покрытия;
4.2.3. Целостности покрытия;
4.2.4. Состава покрытия;
4.2.5. Сцепления покрытия и подложки;
4.2.6. Микроструктурной однородности
4.3. Критерии для оценки оптических свойств (мерой измерения
параметров является длина волны):
4.3.1. Отражательная способность;
4.3.2. Прозрачность;
4.3.3. Поглощение;
4.3.4. Рассеяние
5. Терминология, используемая в технологиях и параметрах,
связанных со специфическим покрытием и с процессами видоизменения
поверхности, указанными в таблице:
5.1. Для химического осаждения паров:
5.1.1. Состав и формулировка источника покрытия;
5.1.2. Состав несущего газа;
5.1.3. Температура подложки;
5.1.4. Температурно - временные циклы и циклы давления;
5.1.5. Контроль и изменение дозировки газа
5.2. Для термального сгущения - физического осаждения паров:
5.2.1. Состав слитка или источника материала покрытия;
5.2.2. Температура подложки;
5.2.3. Состав химически активного газа;
5.2.4. Норма загрузки слитка или норма загрузки испаряемого
материала;
5.2.5. Температурно - временные циклы и циклы давления;
5.2.6. Контроль и изменение дозировки газа;
5.2.7. Параметры лазера:
5.2.7.1. Длина волны;
5.2.7.2. Плотность мощности;
5.2.7.3. Длительность импульса;
5.2.7.4. Периодичность импульсов;
5.2.7.5. Источник;
5.2.7.6. Исключен.
5.3. Для цементации с предварительной обмазкой:
5.3.1. Состав обмазки и формулировка;
5.3.2. Состав несущего газа;
5.3.3. Температурно - временные циклы и циклы давления
5.4. Для плазменного напыления:
5.4.1. Состав порошка, подготовка и объемы распределения;
5.4.2. Состав и параметры подаваемого газа;
5.5.3. Температура подложки;
5.4.4. Параметры мощности плазменной пушки;
5.4.5. Дистанция напыления;
5.4.6. Угол напыления;
5.4.7. Состав покрывающего газа, давление и скорость потока;
5.4.8. Контроль и изменение дозировки плазменной пушки
5.5. Для металлизации распылением:
5.5.1. Состав и структура мишени;
5.5.2. Геометрическая регулировка положения деталей и мишени;
5.5.3. Состав химически активного газа;
5.5.4. Высокочастотное подмагничивание;
5.5.5. Температурно - временные циклы и циклы давления;
5.5.6. Мощность триода;
5.5.7. Изменение дозировки
5.6. Для ионной имплантации:
5.6.1. Контроль и изменение дозировки пучка;
5.6.2. Элементы конструкции источника ионов;
5.6.3. Аппаратура управления пучком ионов и параметрами скорости
осаждения;
5.6.4. Температурно - временные циклы и циклы давления
5.7. Для ионного гальванического покрытия:
5.7.1. Контроль и изменение дозировки пучка;
5.7.2. Элементы конструкции источника ионов;
5.7.3. Аппаратура управления пучком ионов и параметрами скорости
осаждения;
5.7.4. Температурно - временные циклы и циклы давления;
5.7.5. Скорость подачи покрывающего материала и скорость
испарения;
5.7.6. Температура подложки;
5.7.7. Параметры наклона подложки
------------------------------------------------------------------------------------
| N | Наименование | Код товарной |
| позиции | | номенклатуры |
| | | внешненеэкономической |
| | | деятельности |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Категория 3. Электроника | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1. | Системы, оборудование и компоненты | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Примечания. 1. Контрольный статус | |
| | оборудования и компонентов, указанных в | |
| | пункте 3.1, других, нежели те, которые | |
| | указаны в пунктах 3.1.1.1.3 - | |
| | 3.1.1.1.10 или в пункте 3.1.1.1.12, | |
| | которые специально разработаны или | |
| | имеют те же самые функциональные | |
| | характеристики, как и другое | |
| | оборудование, определяется по | |
| | контрольному статусу другого | |
| | оборудования. | |
| | 2. Контрольный статус интегральных | |
| | схем, указанных в пунктах 3.1.1.1.3 - | |
| | 3.1.1.1.9 или в пункте 3.1.1.1.12, | |
| | программы которых не могут быть | |
| | изменены, или разработанных для | |
| | выполнения конкретных функций для | |
| | другого оборудования, определяется по | |
| | контрольному статусу другого | |
| | оборудования. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Особое примечание. В тех случаях, | |
| | когда изготовитель или заявитель не | |
| | может определить контрольный статус | |
| | другого оборудования, этот статус | |
| | определяется контрольным статусом | |
| | интегральных схем, указанных в пунктах | |
| | 3.1.1.1.3 - 3.1.1.1.9 или пункте | |
| | 3.1.1.1.12; если интегральная схема | |
| | является кремниевой микросхемой | |
| | микроЭВМ или микросхемой | |
| | микроконтроллера, указанных в пункте | |
| | 3.1.1.1.3, и имеет длину слова операнда | |
| | 8 бит или менее, то ее контрольный | |
| | статус должен определяться в | |
| | соответствии с пунктом 3.1.1.1.3. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1. | Электронные компоненты, такие как: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1. | Нижеперечисленные интегральные | |
| | микросхемы общего назначения: | |
| | Примечания. 1. Контрольный статус | |
| | готовых пластин или полуфабрикатов для | |
| | их изготовления, на которых | |
| | воспроизведена конкретная функция, | |
| | оценивается по параметрам, указанным в | |
| | пункте 3.1.1.1. | |
| | 2. Понятие "интегральные схемы" | |
| | включает следующие типы: | |
| | твердотельные интегральные схемы; | |
| | гибридные интегральные схемы; | |
| | многокристальные интегральные схемы; | |
| | пленочные интегральные схемы, включая | |
| | интегральные схемы типа "кремний на | |
| | сапфире"; | |
| | оптические интегральные схемы. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.1. | Интегральные схемы, спроектированные | 8542 |
| | или определяемые как радиационно | |
| | стойкие, выдерживающие любое из | |
| | следующих воздействий: | |
| | а) общую дозу 5 x 1E3 Гр (кремний) | |
| | [5 x 1E5 рад (кремний)] или выше; или | |
| | б) предел мощности дозы 5 x 1E6 Гр/с | |
| | (кремний) [5 x 1E8 рад (кремний)/с] | |
| | или выше; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.2. | Микропроцессорные микросхемы, | 8542 |
| | микрокомпьютерные микросхемы, | |
| | микросхемы микроконтроллеров, | |
| | интегральные схемы памяти, | |
| | изготовленные на полупроводниковых | |
| | соединениях, аналого - цифровые | |
| | преобразователи, цифро - аналоговые | |
| | преобразователи, электронно - | |
| | оптические или оптические интегральные | |
| | схемы для обработки сигналов, | |
| | программируемые пользователем | |
| | логические устройства, интегральные | |
| | схемы для нейронных сетей, заказные | |
| | интегральные схемы, у которых функция | |
| | неизвестна либо производителю не | |
| | известно, распространяется ли | |
| | контрольный статус на аппаратуру, в | |
| | которой будут использоваться данные | |
| | интегральные схемы, процессоры быстрого | |
| | преобразования Фурье, интегральные | |
| | схемы электрически программируемых | |
| | постоянных запоминающих устройств | |
| | (ЭППЗУ), программируемые с | |
| | ультрафиолетовым стиранием, и | |
| | статических запоминающих устройств с | |
| | произвольной выборкой (СЗУПВ), имеющие | |
| | любую из следующих характеристик: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | а) работоспособные при температуре | |
| | окружающей среды выше 398 K (+125 град. | |
| | C); | |
| | б) работоспособные при температуре | |
| | окружающей среды ниже 218 K (-55 град. | |
| | C); или | |
| | в) работоспособные за пределами | |
| | диапазона температур окружающей среды | |
| | от 218 K (-55 град. C) до 398 K (+125 | |
| | град. C) | |
| | Примечание. Пункт 3.1.1.1.2 не | |
| | распространяется на интегральные схемы, | |
| | применяемые для гражданских автомобилей | |
| | и железнодорожных поездов. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.3. | Микропроцессорные микросхемы, | |
| | микрокомпьютерные микросхемы и | |
| | микросхемы микроконтроллеров, имеющие | |
| | любую из следующих характеристик: | |
| | Примечание. Пункт 3.1.1.1.3 включает | |
| | процессоры цифровых сигналов, цифровые | |
| | матричные процессоры и цифровые | |
| | сопроцессоры. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.3.1. | Совокупную теоретическую | 8542 13 55; |
| | производительность (СТП) 3500 млн. | 8542 13 690; |
| | теоретических операций в секунду | 8542 14 300; |
| | (Мтопс) или более и | 8542 14 440; |
| | арифметико - логическое устройство с | 8542 19 550; |
| | длиной выборки 32 бита или более; | 8542 19 680; |
| | | 8542 40 100 |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.3.2. | Изготовленные на полупроводниковых | 8542 13 55; |
| | соединениях и работающие на тактовой | 8542 13 690; |
| | частоте, превышающей 40 МГц; или | 8542 14 300; |
| | | 8542 14 440; |
| | | 8542 19 550; |
| | | 8542 19 680; |
| | | 8542 40 100 |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.3.3. | Более чем одну шину данных или команд, | 8542 13 55; |
| | или порт последовательной связи для | 8542 13 690; |
| | внешнего межсоединения в параллельный | 8542 14 300; |
| | процессор со скоростью передачи, | 8542 14 440; |
| | превышающей 2,5 Мбит/с | 8542 19 550; |
| | | 8542 19 680; |
| | | 8542 40 100 |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.4. | Интегральные схемы памяти, | 8542 13 55; |
| | изготовленные на полупроводниковых | 8542 13 670 0; |
| | соединениях; | 8542 13 690; |
| | | 8542 14 300; |
| | | 8542 14 420 0; |
| | | 8542 14 440; |
| | | 8542 19 550; |
| | | 8542 19 620 0; |
| | | 8542 19 680; |
| | | 8542 40 100 |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.5. | Интегральные схемы для аналого - | 8542 30 650 0; |
| | цифровых и цифро - аналоговых | 8542 30 950 0; |
| | преобразователей, такие как: | 8542 40 900 |
| | а) аналого - цифровые преобразователи, | |
| | имеющие любую из следующих | |
| | характеристик: | |
| | 1) разрешающую способность 8 бит или | |
| | более, но меньше 12 бит с общим | |
| | временем преобразования менее 10 нс; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | 2) разрешающую способность 12 бит с | |
| | общим временем преобразования менее 200 | |
| | нс; или | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | 3) разрешающую способность более 12 бит | |
| | с общим временем преобразования менее | |
| | 2 мкс; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | б) цифро - аналоговые преобразователи с | |
| | разрешающей способностью 12 бит и более | |
| | и временем выхода на установившийся | |
| | режим менее 10 нс; | |
| | Технические примечания. 1. Разрешающая | |
| | n | |
| | способность n битов соответствует 2 | |
| | уровням квантования. | |
| | 2. Общее время преобразования является | |
| | обратной величиной разрешающей | |
| | способности. | |
| | (технические примечания введены | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.6. | Электронно - оптические и оптические | 8542 |
| | интегральные схемы для обработки | |
| | сигналов, имеющие одновременно все | |
| | перечисленные составляющие: | |
| | а) один внутренний лазерный диод или | |
| | более; | |
| | б) один внутренний светочувствительный | |
| | элемент или более; и | |
| | в) оптические волноводы; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.7. | Программируемые пользователем | 8542 13 740 0; |
| | логические устройства, имеющие любую из | 8542 14 650 0 |
| | следующих характеристик: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | а) эквивалентное количество годных | |
| | вентилей более 30000 (в пересчете на | |
| | двухвходовые); или | |
| | б) типовое время задержки основного | |
| | логического элемента менее 0,4 нс; | |
| | в) частоту переключения, превышающую | |
| | 133 МГц | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Примечание. Пункт 3.1.1.1.7 включает: | |
| | простые программируемые логические | |
| | устройства (ППЛУ); | |
| | сложные программируемые логические | |
| | устройства (СПЛУ); | |
| | программируемые пользователем | |
| | вентильные матрицы (ППВМ); | |
| | программируемые пользователем | |
| | логические матрицы (ППЛМ); | |
| | программируемые пользователем | |
| | межсоединения (ППМС). | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Особое примечание. Программируемые | |
| | пользователем логические устройства | |
| | также известны как программируемые | |
| | пользователем вентильные или | |
| | программируемые пользователем | |
| | логические матрицы. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.8. | Исключен; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.9. | Интегральные схемы для нейронных сетей; | 8542 |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.10. | Заказные интегральные схемы, у которых | 8542 13 720 0; |
| | функция неизвестна либо производителю | 8542 14 600 0; |
| | неизвестно, распространяется ли | 8542 19 720 0; |
| | контрольный статус на аппаратуру, в | 8542 30; |
| | которой будут использоваться данные | 8542 40 |
| | интегральные схемы, имеющие любую из | |
| | следующих характеристик: | |
| | а) свыше 208 выводов; | |
| | б) типовое время задержки основного | |
| | логического элемента менее 0,35 нс; или | |
| | в) рабочую частоту, превышающую 3 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.11. | Цифровые интегральные схемы, | 8542 |
| | отличающиеся от указанных в пунктах | |
| | 3.1.1.1.3 - 3.1.1.1.10 и 3.1.1.1.12, | |
| | созданные на основе какого-либо | |
| | полупроводникового соединения и имеющие | |
| | любую из следующих характеристик: | |
| | а) эквивалентное количество годных | |
| | вентилей более 3000 (в пересчете на | |
| | двухвходовые); или | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | б) частоту переключения, превышающую | |
| | 1,2 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.1.12. | Процессоры быстрого преобразования | 8542 13 55; |
| | Фурье, имеющие любую из следующих | 8542 13 610 0; |
| | характеристик: | 8542 13 630 0; |
| | а) расчетное время выполнения | 8542 13 650 0; |
| | комплексного 1024-точечного быстрого | 8542 13 670 0; |
| | преобразования Фурье менее 1 мс; | 8542 13 690; |
| | б) расчетное время выполнения | 8542 14 300; |
| | комплексного N-точечного сложного | 8542 14 420 0; |
| | быстрого преобразования Фурье, | 8542 14 440; |
| | отличного от 1024-точечного, менее чем | 8542 19 550; |
| | Nlog2N/10240 мс, где N - число точек; | 8542 19 620 0; |
| | или | 8542 19 680; |
| | в) производительность алгоритма | 8542 40 100 |
| | "бабочка" более 5,12 МГц | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2. | Компоненты микроволнового или | |
| | миллиметрового диапазона, такие как: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.1. | Нижеперечисленные электронные вакуумные | |
| | лампы и катоды: | |
| | Примечание. По пункту 3.1.1.2.1 не | |
| | контролируются лампы, разработанные или | |
| | спроектированные для работы в | |
| | стандартном диапазоне частот, | |
| | установленном Международным союзом | |
| | электросвязи, с частотами, не | |
| | превышающими 31 ГГц. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.1.1. | Лампы бегущей волны импульсного или | 8540 79 000 0 |
| | непрерывного действия, такие как: | |
| | а) работающие на частотах, превышающих | |
| | 31 ГГц; | |
| | б) имеющие элемент подогрева катода со | |
| | временем от включения до выхода лампы | |
| | на предельную радиочастотную мощность | |
| | менее 3 с; | |
| | в) лампы с сопряженными резонаторами | |
| | или их модификации с мгновенной шириной | |
| | полосы частот более 7% или пиком | |
| | мощности, превышающим 2,5 кВт; | |
| | г) спиральные лампы или их модификации, | |
| | имеющие любую из следующих | |
| | характеристик: | |
| | 1) мгновенную ширину полосы более одной | |
| | октавы и произведение средней мощности | |
| | (выраженной в кВт) на рабочую частоту | |
| | (выраженную в ГГц) более 0,5; | |
| | 2) мгновенную ширину полосы в одну | |
| | октаву или менее и произведение средней | |
| | мощности (выраженной в кВт) на рабочую | |
| | частоту (выраженную в ГГц) более 1; или | |
| | 3) годные для применения в космосе; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.1.2. | Лампы - усилители магнетронного | 8540 71 000 0 |
| | типа с коэффициентом усиления более | |
| | 17 дБ; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.1.3. | Импрегнированные катоды, | 8540 99 000 0 |
| | разработанные для электронных ламп, | |
| | имеющих плотность тока при непрерывной | |
| | эмиссии и штатных условиях | |
| | функционирования, превышающую | |
| | 5 А/кв. см | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.2. | Микроволновые интегральные схемы или | 8542 30; 8542 40; |
| | модули, | 8542 50 000 0 |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | а) содержащие твердотельные | |
| | интегральные схемы; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | б) работающие на частотах выше 3 ГГц"; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Примечание. По пункту 3.1.1.2.2 не | |
| | контролируются схемы или модули | |
| | оборудования, спроектированного для | |
| | работы в стандартном диапазоне частот, | |
| | установленном Международным союзом | |
| | электросвязи, не превышающем 31 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.3. | Микроволновые транзисторы, | 8541 21; |
| | предназначенные для работы на частотах, | 8541 29 |
| | превышающих 31 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.4. | Микроволновые твердотельные усилители, | 8543 89 900 0 |
| | имеющие любую из следующих | |
| | характеристик: | |
| | а) работающие на частотах свыше | |
| | 10,5 ГГц и имеющие мгновенную ширину | |
| | полосы частот более пол-октавы; | |
| | б) работающие на частотах свыше 31 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.5. | Фильтры с электронной или магнитной | 8543 89 900 0 |
| | настройкой, содержащие более пяти | |
| | настраиваемых резонаторов, | |
| | обеспечивающих настройку в полосе | |
| | частот с соотношением максимальной и | |
| | минимальной частот 1,5:1 (fmax / fmin) | |
| | менее чем за 10 мкс, имеющие любую из | |
| | следующих составляющих: | |
| | а) полосовые фильтры, имеющие полосу | |
| | пропускания частоты более 0,5% от | |
| | резонансной частоты; или | |
| | б) заградительные фильтры, имеющие | |
| | полосу подавления частоты менее 0,5% | |
| | от резонансной частоты; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.6. | Микроволновые сборки, способные | 8542 50 000 0 |
| | работать на частотах, превышающих | |
| | 31 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.7. | Смесители и преобразователи, | 8543 89 900 0 |
| | разработанные для расширения частотного | |
| | диапазона аппаратуры, указанной в | |
| | пунктах 3.1.2.3, 3.1.2.5 или 3.1.2.6; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.2.8. | Микроволновые усилители мощности СВЧ, | 8543 89 900 0 |
| | содержащие лампы, контролируемые по | |
| | пункту 3.1.1.2, и имеющие все следующие | |
| | характеристики: | |
| | а) рабочие частоты свыше 3 ГГц; | |
| | б) среднюю плотность выходной мощности, | |
| | превышающую 80 Вт/кг; и | |
| | в) объем менее 400 куб. см | |
| | Примечание. По пункту 3.1.1.2.8 не | |
| | контролируется аппаратура, | |
| | разработанная или пригодная для работы | |
| | на стандартных частотах, | |
| | установленных Международным союзом | |
| | электросвязи. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.3. | Приборы на акустических волнах и | |
| | специально спроектированные для них | |
| | компоненты, такие как: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.3.1. | Приборы на поверхностных акустических | 8541 60 000 0 |
| | волнах и на акустических волнах в | |
| | тонкой подложке (т.е. приборы для | |
| | обработки сигналов, использующие | |
| | упругие волны в материале), имеющие | |
| | любую из следующих характеристик: | |
| | а) несущую частоту более 2,5 ГГц; или | |
| | б) несущую частоту более 1 ГГц, но не | |
| | превышающую 2,5 ГГц, и дополнительно | |
| | имеющие любую из следующих | |
| | характеристик: | |
| | 1) частотное подавление боковых | |
| | лепестков диаграммы направленности | |
| | более 55 дБ; | |
| | 2) произведение максимального времени | |
| | задержки (в мкс) на ширину полосы | |
| | частот (в МГц) более 100; | |
| | 3) ширину полосы частот более 250 МГц; | |
| | или | |
| | 4) задержку рассеяния, превышающую | |
| | 10 мкс; или | |
| | в) несущую частоту от 1 ГГц и менее и | |
| | дополнительно имеющие любую из | |
| | следующих характеристик: | |
| | 1) произведение максимального времени | |
| | задержки (в мкс) на ширину полосы | |
| | частот (в МГц) более 100; | |
| | 2) задержку рассеяния, превышающую | |
| | 10 мкс; или | |
| | 3) частотное подавление боковых | |
| | лепестков диаграммы направленности | |
| | более 55 дБ и ширину полосы частот, | |
| | превышающую 50 МГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.3.2. | Приборы на объемных акустических волнах | 8541 60 000 0 |
| | (т.е. приборы для обработки сигналов, | |
| | использующие упругие волны в | |
| | материале), обеспечивающие | |
| | непосредственную обработку сигналов на | |
| | частотах свыше 1 ГГц; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.3.3. | Акустооптические приборы обработки | 8541 60 000 0 |
| | сигналов, использующие взаимодействие | |
| | между акустическими волнами (объемными | |
| | или поверхностными) и световыми | |
| | волнами, что позволяет непосредственно | |
| | обрабатывать сигналы или изображения, | |
| | включая анализ спектра, корреляцию или | |
| | свертку | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.4. | Электронные приборы и схемы, содержащие | 8540; |
| | компоненты, изготовленные из | 8541; |
| | сверхпроводящих материалов, специально | 8542; |
| | спроектированные для работы при | 8543 |
| | температурах ниже критической | |
| | температуры хотя бы одной из | |
| | сверхпроводящих составляющих, имеющие | |
| | хотя бы один из следующих признаков: | |
| | а) исключен. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | а) токовые переключатели для цифровых | |
| | схем, использующие сверхпроводящие | |
| | вентили, у которых произведение времени | |
| | задержки на вентиль (в секундах) на | |
| | рассеяние мощности на вентиль (в | |
| | ваттах) ниже 1E(-14) Дж; или | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | б) селекцию частоты на всех частотах с | |
| | использованием резонансных контуров с | |
| | добротностью, превышающей 10000 | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.5. | Нижеперечисленные накопители энергии: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.5.1. | Батареи и батареи на фотоэлектрических | 8506; |
| | элементах, такие как: | 8507; |
| | а) первичные элементы и батареи с | 8541 40 910 0 |
| | плотностью энергии свыше 480 Вт.ч/кг | |
| | и пригодные по техническим условиям для | |
| | работы в диапазоне температур от 243 K | |
| | (-30 град. C) и ниже до 343 K | |
| | (70 град. C) и выше; | |
| | Техническое примечание. Плотность | |
| | энергии определяется путем умножения | |
| | средней мощности в ваттах (произведение | |
| | среднего напряжения в вольтах на | |
| | средний ток в амперах) на длительность | |
| | цикла разряда в часах, при котором | |
| | напряжение на разомкнутых клеммах | |
| | падает до 75% от номинала, и деления | |
| | полученного произведения на общую массу | |
| | элемента (или батареи) в кг. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | б) подзаряжаемые элементы и батареи с | |
| | плотностью энергии свыше 150 Вт.ч/кг | |
| | после 75 циклов заряда - разряда при | |
| | токе разряда, равном С/5 ч (С - | |
| | номинальная емкость в ампер - часах), | |
| | при работе в диапазоне температур от | |
| | 253 K (-20 град. C) и ниже до 333 K | |
| | (60 град. C) и выше; | |
| | в) батареи, по техническим условиям | |
| | годные для применения в космосе, и | |
| | радиационно стойкие батареи на | |
| | фотоэлектрических элементах с удельной | |
| | мощностью свыше 160 Вт/кв. м при | |
| | рабочей температуре 301 K (28 град. C) | |
| | и вольфрамовом источнике, нагретом до | |
| | 2800 K (2527 град. C) и создающем | |
| | энергетическую освещенность 1 кВт/кв. м | |
| | Примечание. По пункту 3.1.1.5.1 не | |
| | контролируются батареи объемом | |
| | 27 куб. см и меньше (например, | |
| | стандартные угольные элементы или | |
| | батареи типа R14). | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.5.2. | Накопители большой энергии, такие как: | 8506; |
| | | 8507; |
| | | 8532 |
| | а) накопители с частотой повторения | |
| | менее 10 Гц (одноразовые накопители), | |
| | имеющие все следующие характеристики: | |
| | 1) номинальное напряжение 5 кВ или | |
| | более; | |
| | 2) плотность энергии 250 Дж/кг или | |
| | более; и | |
| | 3) общую энергию 25 кДж или более; | |
| | б) накопители с частотой повторения | |
| | 10 Гц и более (многоразовые | |
| | накопители), имеющие все следующие | |
| | характеристики: | |
| | 1) номинальное напряжение не менее | |
| | 5 кВ; | |
| | 2) плотность энергии не менее 50 Дж/кг; | |
| | 3) общую энергию не менее 100 Дж; и | |
| | 4) количество циклов заряда - разряда | |
| | не менее 10000; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.5.3. | Сверхпроводящие электромагниты и | 8505 19 900 0 |
| | соленоиды, специально спроектированные | |
| | на полный заряд или разряд менее чем за | |
| | одну секунду, имеющие все | |
| | нижеперечисленные характеристики: | |
| | а) энергию, выделяемую при разряде, | |
| | превышающую 10 кДж за первую секунду; | |
| | б) внутренний диаметр токопроводящих | |
| | обмоток более 250 мм; и | |
| | в) номинальную магнитную индукцию свыше | |
| | 8 Т или суммарную плотность тока в | |
| | обмотке больше 300 А/кв. мм | |
| | Примечание. По пункту 3.1.1.5.3 не | |
| | контролируются сверхпроводящие | |
| | электромагниты или соленоиды, | |
| | специально спроектированные для | |
| | медицинской аппаратуры | |
| | магниторезонансной томографии. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.1.6. | Вращающиеся преобразователи абсолютного | 9031 80 310 0 |
| | углового положения вала в код, имеющие | |
| | любую из следующих характеристик: | |
| | а) разрешение лучше 1/265000 от полного | |
| | диапазона (18 бит); или | |
| | б) точность лучше +/- 2,5 угл. с | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.2. | Нижеперечисленная электронная | |
| | аппаратура общего назначения: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.2.1. | Записывающая аппаратура и специально | |
| | разработанная измерительная магнитная | |
| | лента для нее, такие как: | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.2.1.1. | Накопители на магнитной ленте для | 8520 39 900 0; |
| | аналоговой аппаратуры, включая | 8520 90 900 0; |
| | аппаратуру с возможностью записи | 8521 10 300 0; |
| | цифровых сигналов (например, | 8521 10 800 0 |
| | использующие модуль цифровой записи | |
| | высокой плотности), имеющие любую из | |
| | следующих характеристик: | |
| | а) полосу частот, превышающую 4 МГц на | |
| | электронный канал или дорожку; | |
| | б) полосу частот, превышающую 2 МГц на | |
| | электронный канал или дорожку, при | |
| | числе дорожек более 42; или | |
| | в) ошибку рассогласования (основную) | |
| | временной шкалы, измеренную по | |
| | методикам соответствующих руководящих | |
| | материалов Межведомственного совета по | |
| | радиопромышленности (IRIG) или | |
| | Ассоциации электронной промышленности | |
| | (EIA), менее +/- 0,1 мкс; | |
| | Примечание. Аналоговые | |
| | видеомагнитофоны, специально | |
| | разработанные для гражданского | |
| | применения, не рассматриваются как | |
| | записывающая аппаратура. | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| 3.1.2.1.2. | Цифровые видеомагнитофоны, имеющие | 8521 10; |
| | максимальную пропускную способность | 8521 90 000 0 |
| | цифрового интерфейса свыше 360 Мбит/с; | |
|--------------|------------------------------------------|------------------------|
| | Примечание. По пункту 3.1.2.1.2 не | |
| | контролируются цифровые | |
| | видеомагнитофоны, специально | |
| | спроектированные для телевизионной | |
| | записи, использующие формат сигнала, | |
| | который может включать сжатие формата | |
| | сигнала, стандартизированный или | |
| | рекомендуемый для применения в | |
| | гражданском телевидении Международным | |
| | союзом электросвязи, Международной | |
| | электротехнической комиссией, | |
| | Организацией инженеров по развитию кино | |
|